TC Wafer晶圓測溫系統
TC Wafer晶圓測溫系統通過利用自主研發的核心技術將耐高溫的熱電偶傳感器鑲嵌在晶圓表面，實時監控和記錄晶圓在制程過程中的溫度變化數據，為半導體制造過程提供一種高效可靠的方式來監測和優化關鍵的工藝參數。
產品優勢：
1. 1200℃耐高溫測量：熱電偶傳感器能夠承受1200℃的溫度，TC Wafer適合用于監控在極端溫度條件下進行的半導體制造過程。
2. 溫度精確實時監測：TC Wafer可提供晶圓上特定位置的準確溫度數據。
3. 詳細溫度分布圖：通過在晶圓上布置多個點來收集溫度數據，TC Wafer能夠提供整個晶圓的溫度分布情況，幫助識別不均勻加熱或冷卻的問題。
4. 瞬態溫度跟蹤：TC Wafer能夠捕捉到快速變化的溫度動態，如升溫、降溫、恒溫過程以及延遲時間等關鍵參數的變化，為工藝優化提供數據支持。
5. 支持過程控制與優化：持續監控晶圓在熱處理過程中的溫度變化有助于工程師調整工藝參數，提高生產效率并確保產品質量。
6. 適用于多種晶圓尺寸：TC Wafer的設計使其能夠適用于不同直徑的晶圓，包括2英寸和大至12英寸的晶圓，滿足各種制造需求。
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TC Wafer晶圓測溫系統 |
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Wafer尺寸 |
2”、3”、4”、6”、8”、12” |
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測溫點數 |
1-34 |
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溫度范圍 |
K型：RT~1200℃ B型：RT~1800℃ T型：RT~350℃ |
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溫度精度 |
K型：±1.1℃/0.4% B型：±1.5℃/0.25% T型：±0.5℃ |
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sensor to sensor |
K型：±1.1℃/0.4% B型：±1.5℃/0.25% T型：±0.5℃ |
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測溫元件 |
TC |
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TC線徑 |
0.127mm/0.254mm |
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晶圓材質 |
硅片/ 藍寶石等 |
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線長 |
L1-腔體內部；L2-倉門過渡段；L3-腔體外部 |
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采樣頻率 |
1Hz |
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測溫軟件 |
測溫專用軟件，實時顯示溫度場剖面圖及實時升溫曲線圖 |
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配套主機 |
測溫系統配套主機 |
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應用場景 |
薄膜設備腔體 外延爐 擴散爐 三溫臺 加熱臺 勻膠顯影機 物理氣相沉積PVD chamber ?? 化學氣相沉積CVD chamber 快速退火爐RTP/RTA chamber ? 去膠機Strippers ? 真空回流爐 ? 真空清洗機 |
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