【TC Wafer】晶圓高精度測溫系統-瑞樂科技

【TC Wafer】晶圓測溫系統，憑借我們自主研發的核心技術，創造性地將耐高溫熱電偶傳感器嵌入晶圓表層，從而實現對晶圓制程中溫度波動的實時追蹤與詳盡記錄。這一創新系統為半導體生產流程引入了高效且穩定的監控機制，助力制造商精準把控并優化關鍵工藝參數。

產品獨特優勢：

1. 超凡耐高溫性能：熱電偶傳感器擁有卓越的1200℃耐高溫能力，使TC Wafer成為監控極端溫度條件下半導體生產過程的理想選擇。
2. 精確實時溫度監測：TC Wafer能夠實時提供晶圓上特定位置的精確溫度讀數，確保對制程溫度的嚴密把控。
3. 全晶圓溫度分布圖：通過晶圓上多點的溫度數據采集，系統可生成全面的晶圓溫度分布圖，幫助用戶迅速識別并處理加熱或冷卻不均的問題。
4. 瞬態溫度動態捕捉：無論是升溫、降溫過程，還是恒溫階段及延遲時間等關鍵參數的微妙變化，TC Wafer都能精準捕捉，為工藝的深度優化提供堅實數據支撐。

1. 制程控制與優化助手：通過持續監測晶圓在熱處理中的溫度變遷，工程師得以精準調整工藝參數，從而實現生產效率的提升與產品質量的保障。
2. 廣泛晶圓尺寸兼容性：【TC Wafer】的靈活設計使其能夠適應從2英寸到12英寸的不同晶圓尺寸，滿足多樣化的制造需求。

【TC Wafer】晶圓高精度測溫系統不僅提升了溫度監測的精度與范圍，更為半導體制造業帶來了前所未有的制程優化機會。